Hellma氟化鈣（CaF?）LD-A材料高透光率

Hellma氟化鈣（CaF?）LD-A材料高透光率

Hellma氟化鈣LD-A型號核心技術(shù)優(yōu)勢

193nm深紫外波段專用優(yōu)化，超高透過率與低吸收損耗

Hellma CaF? LD-A材料是針對193nm ArF準分子激光波段定向開發(fā)的高純光學級材料，在深紫外區(qū)域具備的光學傳輸性能。常規(guī)光學玻璃、石英材料在193nm波段會出現(xiàn)強烈吸收與透過率衰減，無法滿足激光傳輸與光刻成像需求，而LD-A型號氟化鈣單晶在193nm處透過率可達90%以上，且吸收系數(shù)極低，幾乎不產(chǎn)生激光能量損耗與熱累積。材料經(jīng)過紫外波段專屬退火、雜質(zhì)去除、晶格優(yōu)化處理，消除了色心、空位、金屬離子等導致紫外吸收的缺陷，保證在高功率紫外激光連續(xù)照射下不褪色、不損傷、不改變光學性能，是193nm光刻系統(tǒng)、激光清洗、紫外光譜檢測系統(tǒng)的理想基材。

高品質(zhì)單晶結(jié)構(gòu)與<111>優(yōu)晶體取向，光學均勻性行業(yè)

該產(chǎn)品采用單晶（monokristallin）結(jié)構(gòu)，整體由單一連續(xù)晶格組成，無晶界、無位錯聚集、無微裂紋、無雜質(zhì)偏析，光學均勻性遠超多晶氟化鈣與普通熔融石英。單晶結(jié)構(gòu)可保證折射率均勻一致，避免光線傳輸過程中的散射、畸變、光斑離散，保證成像精度與激光傳輸質(zhì)量。

同時產(chǎn)品采用<111>晶體取向，這是氟化鈣材料在深紫外激光應用中經(jīng)過大量驗證的優(yōu)取向。<111>晶面具備最高的結(jié)構(gòu)對稱性、低的雙折射率、優(yōu)的應力分布特性，可顯著降低激光誘導損傷閾值（LIDT）敏感性，提升元件抗高功率激光沖擊能力；在高溫、高壓、強激光輻射環(huán)境下，<111>取向的晶格結(jié)構(gòu)更穩(wěn)定，不會出現(xiàn)應力開裂、折射率畸變、雙折射增大等問題，保證光學系統(tǒng)長期穩(wěn)定運行漢達森yyds吳亞男。

Hellma氟化鈣（CaF?）LD-A材料高透光率